首頁 > 産品目錄 > 電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品 > 電(diàn)子(zǐ)級 (4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6★∑-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)<☆

電(diàn)子(zǐ)級 (4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(©π&1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)

(4-(tert-butyl)phenyl)←≈≈diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methπ©§ylethyl)benzenesulfonate♣ ✔(1:1)

産品編号 CAS No. MDL No. PubChem ID 分(fēn)子(zǐ)式 分(fēn)子(zǐ)量 純度 外(wài)觀
  • 基礎信息
  • 産品詳情
  • 相(xiàng)關文(wén)獻
英文(wén)名稱 (4-(tert-butyl)pheny ✔•l)diphenylsulfonium,2,4"α☆,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonatβ→♠e(1:1)
中文(wén)名稱電(diàn)子(zǐ)級 (4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-φ§​♠三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)
CAS号0-0-YH84015
産品編号YH84015
分(fēn)子(zǐ)式C37H46O3S2
分(fēn)子(zǐ)量602.29

電(diàn)子(zǐ)級(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-(1-甲基乙基)苯磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度锍鹽化(huà)合物(w≠λ♦♦ù),結合了(le)三芳基锍陽離(lí)子(zǐ)的(de)優異±₩×↓光(guāng)敏性和(hé)特殊苯磺酸鹽的(de)強酸穩定性↓πφ★。該産品具有(yǒu)出色的(de)光(guāng)敏性> &能(néng)和(hé)化(huà)學穩定性,廣泛用(y✘ ♥σòng)于高(gāo)端半導體(tǐ)和(hé)微(wēi)電(diàαγαn)子(zǐ)制(zhì)造中的(de)光(guān↔♠g)刻膠及相(xiàng)關領域。

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[基本信息]

中文(wén)名稱:(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)

英文(wén)名稱:(4-(tert-butyl)pheny γl)diphenylsulfonium,2,ε≠♦4,6-tris(1-methylethπ₽£→yl)benzenesulfonate(1:1)

分(fēn)子(zǐ)式:C37H46O3S2

分(fēn)子(zǐ)量:602.29 g/mol

外(wài)觀:淺黃(huáng)色至白(bε≈↕ái)色粉末或晶體(tǐ)。

純度:≥99.9%,符合電(diàn)子(zǐ)級标準。

溶解性:
1)溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑,如(rú)乙腈、二氯甲烷。↑λ
2)對(duì)水(shuǐ)不(bù)溶,表現(xiàn)出較高(gāo₹‍ )的(de)疏水(shuǐ)性。

熱(rè)穩定性:在高(gāo)溫條件(jiàn)下(xià)(最高(gāo)♥♦£250-300°C)仍能(néng)保持化(huà)學穩定性。

光(guāng)敏特性:在紫外(wài)光(guāng)激發下(xià)表現®↓(xiàn)出優異的(de)反應性能(néng)。

[應用(yòng)領域]

光(guāng)刻膠配方

1)用(yòng)于深紫外(wài)(DUV)和(hé)極紫外(wài)(EUV)光(guāng)刻技(jì)術(shù),提高(gāo)分(fēn)辨率和(‍φπ±hé)顯影(yǐng)對(duì)比度。

2)提升光(guāng)刻膠的(de)曝光(guāng)靈敏度,滿足納米級 ∞微(wēi)圖形制(zhì)造需求。

微(wēi)電(diàn)子(zǐ)與半導體♥✔(tǐ)制(zhì)造

1)應用(yòng)于幹法蝕刻技(jì)術(shù),支持高(↕∑>gāo)精度微(wēi)納加工(gōng)。

2)作(zuò)為(wèi)化(huà)學放(fàng₽‍")大(dà)光(guāng)刻膠的(de)重要(yào)光(α≤guāng)敏劑,提高(gāo)光(guān★♣g)刻工(gōng)藝效率。

高(gāo)性能(néng)材料研發

1)用(yòng)于制(zhì)備具有(y→ ǒu)耐高(gāo)溫和(hé)抗化(hu←≠∞÷à)學腐蝕的(de)功能(néng)薄膜。

2)支持高(gāo)端顯示設備、新能(néng)源器(qì)件(jiànΩ"∑)及微(wēi)電(diàn)子(zǐ)封裝的(de♥≠↓σ)精密制(zhì)造。

優勢

本産品憑借其優異的(de)光(guāng)敏性能(néng)、高(gāΩ£o)純度及熱(rè)化(huà)學穩定性,為(wèi"←>δ)半導體(tǐ)制(zhì)造工(gōng)藝提供關鍵支持,‍∞适用(yòng)于苛刻環境下(xià)的(de)高(gāo)精度制(zh≤>¶™ì)造需求。


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