triphenylsulfanium,4-→' ÷(tert-butyl)phenyl)diph↕γenylsulfonium

電(diàn)子(zǐ)級三苯基硫全氟丁烷磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度的(de)有(yǒu)機(jī)硫化÷≠(huà)合物(wù)，具有(yǒu)出色的(de)熱(rè)穩定性和δ£(hé)化(huà)學穩定性。該化(huà)合物᧮(wù)由三苯基硫陽離(lí)子(zǐ)和(hé)↓" >全氟丁烷磺酸根陰離(lí)子(zǐ)組成，是(shì)一(yī)÷↓σ♥種強酸性光(guāng)酸生(shēng)成劑（PAG），主要(yào)應用(yòng)于深紫外(wài)（DUV）和(hé)極紫外(wài)（EUV）光(guāng)刻工(gōng)藝中。由于其優異的(de)光∑ α©(guāng)化(huà)學反應性和(hé)低(dī)金(jīn)屬雜>→π(zá)質含量，該産品特别适合用(yòng)于高(gāo)精度光(guāng)÷☆∑刻膠和(hé)抗蝕劑的(de)配方，能(néng)夠顯著提高(gāo)€$"™圖形分(fēn)辨率和(hé)顯影(yǐng)性能(n÷₽éng)。

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【物(wù)理(lǐ)性質】

1.基本性質

分(fēn)子(zǐ)式：C₂₂H₂₅NF₁₀S₃O₄

分(fēn)子(zǐ)量：643 g/mol

外(wài)觀：白(bái)色或淺黃(huáng)色<α♠結晶粉末

純度：≥99.5%

2.溶解性

易溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑，如(r§‌×←ú)乙腈、丙酮和(hé)二氯甲烷。

在水(shuǐ)中溶解度較低(dī)，但(dàn)在混合溶劑體(tǐ)系中♠Ω↓表現(xiàn)出良好(hǎo)的(de)溶解性。

3.熱(rè)穩定性

熱(rè)分(fēn)解溫度高(gāo)（＞250°C），适用(yòng)于高(gāo)溫條件(jiàn)下(xià)的(de)光(  guāng)刻工(gōng)藝。

需存儲在幹燥、陰涼環境，避免長(cháng)時(shí)間&₩‍(jiān)暴露于空(kōng)氣和(hé)濕氣中。

【應用(yòng)領域】

1.光(guāng)酸生(shēng)成劑（PAG）

作(zuò)為(wèi)先進光(guāng맶)刻膠的(de)光(guāng)酸生(shēng)成劑，在深紫外(wài)∞★ ®（DUV）和(hé)極紫外(wài)（EUV）光(guāng)刻中表現(xiàn)優異，能(néng↓©)夠在曝光(guāng)後釋放(fàng)強酸， β≤≤從(cóng)而提升顯影(yǐng)效率和(hé)€Ω圖形保真度。适用(yòng)于高(gāo)分(fēn)辨率和(hé)高(g&€āo)靈敏度的(de)光(guāng)刻膠配方，有(α≈←♠yǒu)助于實現(xiàn)精細圖形結構。

2.抗蝕劑和(hé)光(guāng)刻膠

用(yòng)于高(gāo)性能(néng)抗蝕劑¥σ和(hé)光(guāng)刻膠的(de)配方中，提升$♣φ材料的(de)光(guāng)敏性能(néng)和(hé‌÷✔↓)耐化(huà)學蝕刻性能(néng)。在微(wē✘π↑i)電(diàn)子(zǐ)加工(gōng)中，提供卓越的(de)♠©顯影(yǐng)性能(néng)和(hé)邊緣分(fēn)™​★辨率，适用(yòng)于先進的(de)芯片制(zhì)造。

3.電(diàn)子(zǐ)材料添加劑

作(zuò)為(wèi)電(diàn)子(✘∑zǐ)材料中的(de)功能(néng)性添加劑♠≈<✘，提升薄膜的(de)機(jī)械強度和(•<φΩhé)耐熱(rè)性能(néng)。廣泛♥>應用(yòng)于半導體(tǐ)器(qì)件(ji♦  àn)、顯示器(qì)和(hé)光(guāng)電♥₽>(diàn)子(zǐ)器(qì)件(ji↕φàn)的(de)制(zhì)造中，提高(gāo)♥©産品性能(néng)和(hé)穩定性。

電(diàn)子(zǐ)級三苯基硫全氟丁烷磺酸鹽憑借其高(gāo)純度和(h‌←π<é)出色的(de)光(guāng)化(hu×≤​ à)學性能(néng)，成為(wèi)現(xiàn)代光(guān↔α≤g)刻和(hé)電(diàn)子(zǐ)材料領域£★€的(de)重要(yào)化(huà)學品，支持高(gāo)精度和(hé)高(g♦Ωāo)可(kě)靠性的(de)加工(gōng)工(gōng)藝。