| 英文(wén)名稱 | mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-§±1-butanesulfonate |
|---|---|
| 中文(wén)名稱 | 電(diàn)子(zǐ)級 間(jiān)®β÷甲基二苯基磺酸鹽,全氟-1-丁烷磺酸 |
| CAS号 | 0-0-YH84019 |
| 産品編号 | YH84019 |
| 分(fēn)子(zǐ)式 | C25H21F9O3S2 |
| 分(fēn)子(zǐ)量 | 604.08 |
電(diàn)子(zǐ)級全氟-1-丁烷磺酸間(jiān)甲基二苯基磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度的(de)磺酸★♠鹽類化(huà)合物(wù)，專為(wèi)半導體(tǐ)和(hé)電(d→φiàn)子(zǐ)材料應用(yòng)設計(jì)。該化(huà)合物σ'(wù)由全氟-1-丁烷磺酸根與間(jiān)甲基二苯基磺酸陽離(lí)子(zǐ)組成，✘↓€β具有(yǒu)出色的(de)化(huà)學穩定性和(hé)優異σ₽"的(de)熱(rè)性能(néng)。作(zuò)為(wèi)一(y∞±₽ī)種高(gāo)效的(de)光(guāng)☆¶÷δ酸生(shēng)成劑（PAG），該産品在深紫外(wài)（DUV）和(hé)極紫外(wài)（EUV）光(guāng)刻工(gōng)藝中廣δ™∏泛應用(yòng)，特别适合用(yòng)于高(gāo)分(fēn)辨α₽率和(hé)高(gāo)靈敏度的(de)光(guāng)刻膠配方πσ，能(néng)顯著提升圖形保真度和(hé)顯影(yǐng)效果。≥λ
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【物(wù)理(lǐ)性質】
1.基本性質
分(fēn)子(zǐ)式：C25H21F9O3S2
分(fēn)子(zǐ)量：604.08 g/mol
外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色粉末
純度：≥99.5%
2.溶解性
易溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑，如(rú)乙腈、丙酮和(hé)二甲基亞砜←↔（DMSO）。
不(bù)溶于水(shuǐ)，但(dàn)在有(yǒu)機(jī)溶劑體(t ε✔Ωǐ)系中表現(xiàn)出良好(hǎo)的(de)溶♣↑解性和(hé)穩定性。
3.熱(rè)穩定性
熱(rè)分(fēn)解溫度較高(gāo₩←¶)（＞250°C），适合用(yòng)于高(gāo)溫光(guāng)→÷刻和(hé)苛刻的(de)加工(gōng)條件(↕ >>jiàn)。需存放(fàng)于幹燥、避光(gu∞ ↑∞āng)環境，避免長(cháng)時(shí)間(jiān)暴露在潮濕空(k←✔¶ōng)氣中。
【應用(yòng)領域】
1.光(guāng)酸生(shēng)成劑（PAG）
作(zuò)為(wèi)先進光(guāng)刻膠中的(de)光(gu<'āng)酸生(shēng)成劑，在曝光(guāng)過程中能(n←≥↑→éng)迅速生(shēng)成強酸，從(cóng)而★↑♣促進光(guāng)刻膠的(de)顯影(yǐng)反應。在深紫外(wài)（♣>DUV）和(hé)極紫外(wài)（EUV）光(guāng)刻工(gōng)藝中，表現(xiàn∞★)出優異的(de)靈敏度和(hé)分(fēn)辨率，适用↑♦γ₩(yòng)于下(xià)一(yī)代芯<<♥←片制(zhì)造。
2.光(guāng)刻膠和(hé)抗蝕劑配方
用(yòng)于高(gāo)性能(nén←✘α g)光(guāng)刻膠和(hé)抗蝕劑配方中，φ↔÷能(néng)夠提升材料的(de)光(guāng)敏性能(néng)和←¥(hé)化(huà)學穩定性。在微(wēi)細加工(gōng)和('♦hé)高(gāo)分(fēn)辨率圖形形成中，♦→∑提供卓越的(de)邊緣精度和(hé)抗蝕刻性能(néng)。
3.電(diàn)子(zǐ)材料添加劑
在電(diàn)子(zǐ)材料領域作(zuò)為(wèi)添加劑，改善薄膜材£©料的(de)熱(rè)穩定性和(hé)機(j★εī)械強度，适用(yòng)于高(gāo)溫和↕ ¶λ(hé)苛刻環境下(xià)的(de)應用(yòng←✘)。廣泛應用(yòng)于半導體(tǐ)制(zhì)造£♥≤♥、顯示器(qì)生(shēng)産及其他(tā)高(gāo)精度電(d&$>↑iàn)子(zǐ)器(qì)件(jiàn)的(de)開(kāi)發。
電(diàn)子(zǐ)級全氟-1-丁烷磺酸間(jiān)甲基二苯基磺酸鹽以其優越的(de)化(huà)¶學和(hé)熱(rè)性能(néng)，為(wèi)現(xiàn)≈±✘φ代光(guāng)電(diàn)子(zǐ)和(h☆∑é)半導體(tǐ)制(zhì)造工(gōng)藝↓提供了(le)重要(yào)支持。
