電(diàn)子(zǐ)級4-二甲氨基吡啶（4-Dimethylaminopyrid<$∏&ine，簡稱DMAP）是(shì)一(yī)種具有(yǒu)高₩§(gāo)催化(huà)活性和(hé)良好(hǎo)溶解性的 "(de)吡啶衍生(shēng)物(wù)，常用(yòng)于酯化(↕β€☆huà)、酰化(huà)等有(yǒu)機(jī)反應•≤¥中。在電(diàn)子(zǐ)領域，其高(gāo)→∑∏β純度和(hé)化(huà)學穩定性使其成為(wèi)多(duō)種電(dià↓γn)子(zǐ)化(huà)學工(gōng)藝的(de)關鍵助劑★™δ，廣泛用(yòng)于光(guāng)刻膠合成、半導體(✔©ε®tǐ)材料處理(lǐ)及相(xiàng)關研發。
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【物(wù)理(lǐ)性質】
基本信息
（1）化(huà)學式：C7H10N2
（2）分(fēn)子(zǐ)量：122.17 g/mol
外(wài)觀與純度
（1）外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色結晶粉末。
（2）純度：≥99.5%。
物(wù)理(lǐ)參數(shù)
（1）熔點：約110-112°C。
（2）沸點：約162°C（20 mmHg）。
（3）密度：0.906 g/mL at 25 °C。
（4）溶解性：易溶于水(shuǐ)、醇類及多(duō)種有(yǒuγ∞>)機(jī)溶劑。
儲存條件(jiàn)
（1）儲存于密閉、幹燥的(de)環境，避免接觸強氧化(huà)劑<∞✘α和(hé)酸性物(wù)質。
（2）建議(yì)低(dī)溫儲存，防止吸濕。
【應用(yòng)領域】
電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品合成
（1）作(zuò)為(wèi)光(guāng)刻膠合成中的(☆ε de)催化(huà)劑，提高(gāo)反應效率和(hé)産品純δββ度。
（2）在有(yǒu)機(jī)電(diàn)∏↕≠™子(zǐ)材料研發中，用(yòng)于改性劑或添加劑。
半導體(tǐ)制(zhì)造
（1）用(yòng)作(zuò)精細加工(gōng)中的(de)活性助劑，₩↑提高(gāo)塗層附著(zhe)力。
（2）在光(guāng)刻工(gōng)藝中，增強反<應均勻性，支持高(gāo)分(fēn)辨率圖形制(z™∑€hì)備。
其他(tā)電(diàn)子(zǐ)材料應用(yòng)
（1）用(yòng)于功能(néng)性塗層和(hé)薄膜材料制(zhì)備，賦予↑¥ ∏材料特定化(huà)學性能(néng)。
（2）在新型電(diàn)池電(diàn)解質體(tǐ)系中作(zuò)為δ₹™↕(wèi)助劑，優化(huà)導電(diàn)性能(néng)。
【總結】
電(diàn)子(zǐ)級4-二甲氨基吡啶以其高(gāo)純度和(hé)化(huà)學穩定性，成為(wλ>↕èi)電(diàn)子(zǐ)化(huà)學領域的(de)重要(yà™•πo)催化(huà)劑和(hé)助劑，廣泛應用(yòng)₩✔σ于光(guāng)刻、半導體(tǐ)制(zhì)造及功能(néng)材•λ料開(kāi)發。其卓越的(de)催化(huà)性φ≈能(néng)和(hé)多(duō)樣化→♦✔(huà)的(de)應用(yòng)場(chǎng)景，為✔£↕(wèi)電(diàn)子(zǐ)工(gōng)業(yè)的(de)持&←↓續創新提供了(le)可(kě)靠支持。
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