電(diàn)子(zǐ)級 烯丙氧基三甲矽烷

烯丙氧基三甲矽烷（Allyloxytrimethylsilane）是(shì)一(yī)種重要(yào)的(de)有(yǒu)機(≥¥jī)矽化(huà)合物(wù)，具有(yǒu)獨特的(de)烯丙基和(hé••↕<)三甲基矽基團。作(zuò)為(wèi)電(≤‌diàn)子(zǐ)級化(huà)學品，其純度高(gāo)、雜(zá)質低(≥♣×dī)，廣泛用(yòng)于電(diàn)子(zǐ)材料的 ∏☆'(de)制(zhì)備和(hé)有(yǒu)機(jī)合成領域。

産品規格：電(diàn)子(zǐ)級，金×€γ₽(jīn)屬離(lí)子(zǐ)含量小(xiǎo)于1p$↑★±pb。COA下(xià)載

如(rú)果需要(yào)了(le)解更多(duō)産品信息請(qǐng)通(tōng)過微(wēi)信或QQ與我們>σ &取得(de)聯系，我們的(de)團隊将為(wèi)≈ε<您提供一(yī)對(duì)一(yī)的(de)咨詢服務。

QQ：3956182849

微(wēi)信：

【物(wù)理(lǐ)性質】

基本性質

（1）化(huà)學式：C6H14OSi

（2）分(fēn)子(zǐ)量：130.26 g/mol

（3）CAS号：18146-00-4 

外(wài)觀與狀态

（1）外(wài)觀：無色透明(míng)液體(tǐ)

（2）氣味：略有(yǒu)特征氣味

物(wù)理(lǐ)參數(shù)

（1）密度：約0.773 g/mL at ∑αα‌25 °C

（2）沸點：約100-102 °C°C

（3）折射率：約n20/D 1.397

儲存條件(jiàn)

（1）密封儲存于幹燥、陰涼處，避免接觸水(shuǐ)分(fēn)和​ (hé)強氧化(huà)劑。

（2）儲存溫度建議(yì)控制(zhì)在常溫下(xi∏☆<à)，避免陽光(guāng)直射。

【應用(yòng)領域】

電(diàn)子(zǐ)工(gōng)業(yè)

（1）在半導體(tǐ)制(zhì)造中用(yòng)作(zuò)表面改性劑∑&€"，提升界面性能(néng)。

（2）作(zuò)為(wèi)光(guāng)刻膠中間(jiān)體(tǐ)或添加© 劑，用(yòng)于優化(huà)薄膜均勻性和(hé)分(fēn)辨率。ε♦

有(yǒu)機(jī)合成

（1）用(yòng)作(zuò)烯丙基化(huà)試劑，參與多(duō)種有(yǒ★∏₽σu)機(jī)反應，如(rú)烯丙基化(h>εβ uà)和(hé)矽烷化(huà)反應。

（2）可(kě)用(yòng)于制(zhì)備特種矽基化(huà)© 合物(wù)和(hé)功能(néng)材料。

材料科(kē)學

（1）作(zuò)為(wèi)粘附促進劑，增強矽氧烷與基底間(jiān)  的(de)附著(zhe)力。

（2）用(yòng)于開(kāi)發新型光(guāng)電(di ×àn)材料和(hé)高(gāo)性能(néng✔♦←≤)聚合物(wù)。

【總結】

烯丙氧基三甲矽烷因其獨特的(de)化(huà) ✔α學結構和(hé)高(gāo)純度，在電(≤∏✘"diàn)子(zǐ)工(gōng)業(yè)及♥ 合成化(huà)學中展現(xiàn)了(le)廣 ∏€闊的(de)應用(yòng)前景。其優異的(​←<♠de)性能(néng)為(wèi)新材料β 開(kāi)發和(hé)電(diàn)子(zǐ)産品的(d <✔$e)精密加工(gōng)提供了(le)可(kě)靠的(de≈ )解決方案。