電(diàn)子(zǐ)級 二甲基(3-(9-氧-9H-噻蒽&↓↔-2-基)苯基)硫鎓三氟甲磺酸鹽

電(diàn)子(zǐ)級二甲基(3-(9-氧-9H-噻蒽-2-基)苯基)硫鎓三氟甲磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)效光(g ∑uāng)敏材料，具有(yǒu)優異的(de)光(↔δεguāng)化(huà)學性質和(hé)化(huà)學穩定性。該化(hu£↓‌à)合物(wù)廣泛應用(yòng)于高(gāo)分(∏& ≠fēn)辨率光(guāng)刻膠以及其他(tā)電‌±δ±(diàn)子(zǐ)化(huà)學品的(de)制(zhì)備，在先進半導體​π(tǐ)和(hé)微(wēi)電(diàn)子(z₩"≥☆ǐ)器(qì)件(jiàn)制(zhì)造領域 ∑具有(yǒu)重要(yào)作(zuò)用(≤£yòng)。

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【物(wù)理(lǐ)性質】

基本性質

化(huà)學名稱：二甲基(3-(9-氧-9H-噻蒽-2-基)苯基)硫鎓三氟甲磺酸鹽

分(fēn)子(zǐ)式：C₂₂H₁₇F₃O₄S₃

分(fēn)子(zǐ)量：498.02 g/mol

外(wài)觀與溶解性

外(wài)觀：黃(huáng)色至淺橙色結晶粉末£ ₩™

溶解性：易溶于乙腈、二氯甲烷、甲醇等極性有(yǒu)機(j∞φ∑↑ī)溶劑

熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)

熔點：約120-130℃

儲存條件(jiàn)：避光(guāng)儲存于0-10℃的(de)幹燥環境，防止受潮和(hé)氧化(h ★>≈uà)

【應用(yòng)領域】

光(guāng)刻膠配方

作(zuò)為(wèi)光(guāng)敏劑和(hé)光(guāng)産酸∞δ×劑，在高(gāo)分(fēn)辨率光(guāng)刻膠中發揮關鍵作(zu÷÷ ¥ò)用(yòng)。

（1）增強光(guāng)刻膠對(duì)紫外(wài'γ≠λ)光(guāng)和(hé)深紫外(wài)♦∏<♣光(guāng)的(de)感光(guāng)性能₹☆Ω(néng)。

（2）提高(gāo)微(wēi)細圖案的(de)清晰度和(hé)邊緣&©對(duì)比度。

半導體(tǐ)制(zhì)造

在先進半導體(tǐ)和(hé)微(wēi)電(d$↔iàn)子(zǐ)器(qì)件(jiàn)的(de)光(g←'♦uāng)刻工(gōng)藝中表現(xiànε  ↔)出色。

（1）支持亞微(wēi)米及納米級别的(de)高(gāo)精度圖案轉移。↑ ©

（2）滿足尖端芯片制(zhì)造對(duì)化(huà)學材料的(de)嚴苛  要(yào)求。

其他(tā)電(diàn)子(zǐ)應用(yòng)

用(yòng)于光(guāng)電(diàn)材料和(hé)功能(néng)塗↕∑©層的(de)制(zhì)備。

（1）改善光(guāng)電(diàn)設備的(de)光(guāng™∏ )學性能(néng)和(hé)穩定性。

（2）用(yòng)于顯示技(jì)術(shù)β≠<和(hé)傳感器(qì)的(de)關鍵材料層。