電(diàn)子(zǐ)級 三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺♥↑∞♥酸鹽

電(diàn)子(zǐ)級三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度的(de)光(guāng)緻産→$←酸劑，具有(yǒu)獨特的(de)分(fēn)子(zǐ)結構和(h‌☆±é)卓越的(de)光(guāng)化(h<>&uà)學性能(néng)，專為(wèi)高(gāo)端 ‍光(guāng)刻工(gōng)藝設計(jì)。該産品在&×深紫外(wài)（DUV）和(hé)極紫外(wài)（EUV）光(guāng)刻中表現(xiàn)出高✔δ®(gāo)效的(de)酸生(shēng)成效率，能(né≥♥>ng)夠顯著提高(gāo)光(guāng)刻膠的(de)靈敏度和Ω‌&(hé)分(fēn)辨率。其高(gāo) §純度特性使其特别适用(yòng)于半導體(tǐ)制(zhì)造中的(de☆∑)先進制(zhì)程工(gōng)藝。

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【物(wù)理(lǐ)性質】

基本性質

化(huà)學名稱：三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽

分(fēn)子(zǐ)式：C₃₁H₃₉F₃O₃S₂

分(fēn)子(zǐ)量：580.77 g/mol

外(wài)觀與溶解性

外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色粉末或結晶

溶解性：易溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑（如(rú)丙酮、乙腈、DMF），微(wēi)溶于非極性溶劑

熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)

熔點：約210℃

儲存條件(jiàn)：密封避光(guāng)，∏¥'¶低(dī)溫儲存（≤25℃），避免濕氣和(hé)氧化(huà)環境

【應用(yòng)領域】

光(guāng)刻膠材料

用(yòng)作(zuò)高(gāo)性能(néng)光(gσγ♥¶uāng)刻膠的(de)關鍵光(guāng)緻産酸劑，有(yǒu)助于→₩★ 提升光(guāng)刻圖案的(de)分(fēn)辨率和(hé)邊↕​β 緣銳度。

（1）在ArF和(hé)KrF光(guāng)刻膠配方中，提供優異的(de)酸生(shēng↑δ)成效率。

（2）适配EUV光(guāng)刻膠工(gōng)藝，滿足半導體(tǐ)先進制(∑"Ωzhì)程需求。

半導體(tǐ)制(zhì)造

在微(wēi)電(diàn)子(zǐ)加工(gōng)中，優化(hu¥‌à)光(guāng)刻工(gōng)藝的(de)顯影(yǐng)效果↑₩★φ和(hé)線寬控制(zhì)能(néng)力。

（1）适用(yòng)于集成電(diàn)路(l∑φα₩ù)制(zhì)造中的(de)高(gāo)精度圖案轉移。

（2）支持高(gāo)密度封裝和(hé)小(xiǎo)型化(huà)器 ε(qì)件(jiàn)生(shēng)産，提升加工(gōng)良​↕率。

光(guāng)敏材料研發

用(yòng)于開(kāi)發功能(néng)性光(guāng)敏材料，适配多 ∏(duō)種先進電(diàn)子(zǐ)€←↑ 應用(yòng)場(chǎng)景。

（1）提升光(guāng)敏材料的(de)穩定性與靈敏度，優化✘σΩ(huà)工(gōng)藝性能(néng)。

（2）滿足顯示器(qì)、傳感器(qì)等領域對(≠×duì)高(gāo)分(fēn)辨率材料的(de♠£)需求。