電(diàn)子(zǐ)級 2,3,4-三羟δ₽基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯

電(diàn)子(zǐ)級2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是(shì)一(yī)種高(gāo)效光(guāng)敏化(huà)合物(w<£ù)，專為(wèi)先進光(guāng)刻膠配方設計(jì‌Ω$)。其獨特的(de)分(fēn)子(zǐ)結構結¥"≠合了(le)二苯甲酮的(de)光(guāng)化(¶↓×huà)學活性與疊氮基的(de)光(guāng)響應特性，在∏£<紫外(wài)光(guāng)照(zhào)•←±射下(xià)能(néng)夠生(shēng)成活性種，廣泛應用(yò€•≠∏ng)于高(gāo)分(fēn)辨率光(guāng)刻工(gōng)←→✔Ω藝中，滿足半導體(tǐ)制(zhì)造領域對(duì)精細圖案的(de)需α>♦求。

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【物(wù)理(lǐ)性質】

基本性質

化(huà)學名稱：2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯

分(fēn)子(zǐ)式：C₂₃H₁₆N₂O₈S

分(fēn)子(zǐ)量：480.45 g/mol

外(wài)觀與溶解性

外(wài)觀：黃(huáng)色至橙色粉末

溶解性：易溶于甲醇、乙腈等極性有(yǒu)機(jī)溶劑

熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)

熔點：約190℃

儲存條件(jiàn)：避光(guāng)密封儲存，建議(yì)儲存溫度↓α§為(wèi)0-10℃，防止氧化(huà)和(hé)濕氣影(yǐng)響

【應用(yòng)領域】

光(guāng)刻膠配方

作(zuò)為(wèi)光(guāng)敏劑，顯著提升光(guā∑β§ng)刻膠的(de)曝光(guāng)靈敏α 度和(hé)圖案分(fēn)辨率。

（1）适配紫外(wài)（UV）和(hé)深紫外(wài)（DUV）光(guāng)刻工(gōng)藝。

（2）增強光(guāng)刻膠顯影(yǐng)過程中圖案邊緣銳度和("αεhé)清晰度。

半導體(tǐ)制(zhì)造

廣泛應用(yòng)于集成電(diàn)路(lù)與微≥‌>•(wēi)電(diàn)子(zǐ)加工(gōngα•)中的(de)圖案轉移工(gōng)藝。

（1）支持先進制(zhì)程的(de)高(gāo)精度圖形刻蝕，提升線寬控'€✘制(zhì)能(néng)力。

（2）優化(huà)晶圓加工(gōng)良率，降低(dī)缺陷率。

光(guāng)敏材料研發

用(yòng)于開(kāi)發新型光(guāng)敏材料，滿足顯示面闆、傳感∑®©±器(qì)等高(gāo)端領域需求。

（1）提升材料的(de)光(guāng)穩定性和(hé)熱(rè)β •★穩定性。

（2）增強材料在複雜(zá)環境下(xià)的(de)光(guāng)響應性能​​÷≈(néng)，适配多(duō)種先進光(guāng)學應用(yò‌βng)場(chǎng)景。