| Product Name | 2,3,4-Trihydroxybenzophenone nap•hthoquinone-1,2-diazido-5-sulfon€≥ate |
|---|---|
| CAS | 68510-93-0 |
| ProductNum | YH68662 |
| Formula | C23H16N2O8S |
| MW | 480.45 |
電(diàn)子(zǐ)級2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是(shì)一(yī)種高(gāo)效光(guān±γσ★g)敏化(huà)合物(wù),專為(wèi)先進光(&✔← guāng)刻膠配方設計(jì)。其獨特的(de)分(fēn)子(zǐ)結 →™構結合了(le)二苯甲酮的(de)光(guāng)化(huà)學活性β®與疊氮基的(de)光(guāng)響應特性,在紫≥×↕ 外(wài)光(guāng)照(zhào)射下(xià)能(néng)¥←<夠生(shēng)成活性種,廣泛應用(yòng)于高(gāo®¶)分(fēn)辨率光(guāng)刻工(gōng)藝中,滿足半導♣體(tǐ)制(zhì)造領域對(duì)精細圖案的(↔>↑de)需求。
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【物(wù)理(lǐ)性質】
基本性質
化(huà)學名稱:2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯
分(fēn)子(zǐ)式:C23H16N2O8S
分(fēn)子(zǐ)量:480.45 g/mol
外(wài)觀與溶解性
外(wài)觀:黃(huáng)色至橙色粉末
溶解性:易溶于甲醇、乙腈等極性有(yǒu)機(jī)溶劑
熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)
熔點:約190℃
儲存條件(jiàn):避光(guāng)密封儲存,建議(€♣yì)儲存溫度為(wèi)0-10℃,防止氧化(huà)和(hé)濕氣影(yǐng₹÷☆∞)響
【應用(yòng)領域】
光(guāng)刻膠配方
作(zuò)為(wèi)光(guāng)敏§∏♠劑,顯著提升光(guāng)刻膠的(de)曝光₩÷≥ (guāng)靈敏度和(hé)圖案分(fēn)✘π♣ 辨率。
(1)适配紫外(wài)(UV)和(hé)深紫外(wài)(DUV)光(guāng)刻工(gōng)藝。
(2)增強光(guāng)刻膠顯影(yǐng)過程中圖案邊緣銳度和(hé)✘"清晰度。
半導體(tǐ)制(zhì)造
廣泛應用(yòng)于集成電(diàn)路(lù)與微(w&≠☆αēi)電(diàn)子(zǐ)加工(gōng)中的(de)圖案轉移工(gōΩ✔±ng)藝。
(1)支持先進制(zhì)程的(de)高(gāo)精度圖形刻蝕,提升線寬控制≈β↔(zhì)能(néng)力。
(2)優化(huà)晶圓加工(gōng)良率,降低(dī)缺陷率。
光(guāng)敏材料研發
用(yòng)于開(kāi)發新型光(guā¥<<£ng)敏材料,滿足顯示面闆、傳感器(qì)等高(gāo)端領域™"€需求。
(1)提升材料的(de)光(guāng)穩定性和(hé★)熱(rè)穩定性。
(2)增強材料在複雜(zá)環境下(xià)的(de)光(guāng)響應性能( $néng),适配多(duō)種先進光(guān¶₹πg)學應用(yòng)場(chǎng)景。