Home > Category > Electronic Chemicals > 2,3,4-Trihydroxybenzop↑™ "henone naphthoquinone-1,2-diazid¶®↔‌o-5-sulfonate

2,3,4-Trihydroxybenzoph£'₽enone naphthoquinone-1,2-dia✔✘‌zido-5-sulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
  • Basic
  • Product details
  • Related literature
Product Name 2,3,4-Trihydroxybenzophenone nap•‌hthoquinone-1,2-diazido-5-sulfon€≥ate
CAS68510-93-0
ProductNumYH68662
FormulaC23H16N2O8S
MW480.45

電(diàn)子(zǐ)級2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是(shì)一(yī)種高(gāo)效光(guān±γσ★g)敏化(huà)合物(wù),專為(wèi)先進光(&✔← guāng)刻膠配方設計(jì)。其獨特的(de)分(fēn)子(zǐ)結 →™構結合了(le)二苯甲酮的(de)光(guāng)化(huà)學活性β®與疊氮基的(de)光(guāng)響應特性,在紫≥×↕ 外(wài)光(guāng)照(zhào)射下(xià)能(néng)¥←<夠生(shēng)成活性種,廣泛應用(yòng)于高(gāo®‌¶)分(fēn)辨率光(guāng)刻工(gōng)藝中,滿足半導♣‌體(tǐ)制(zhì)造領域對(duì)精細圖案的(↔>↑de)需求。

如(rú)果需要(yào)了(le)解更多(duō)産品信息請(qǐ‌∏ng)通(tōng)過微(wēi)信或QQ與我們取得(de)聯系,我們的(de)團隊将為(wèi)您提供一(y✘✘ī)對(duì)一(yī)的(de)咨詢服務。

QQ3956182849

微(wēi)信:

【物(wù)理(lǐ)性質】

基本性質

化(huà)學名稱:2,3,4-三羟基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯

分(fēn)子(zǐ)式:C23H16N2O8S

分(fēn)子(zǐ)量:480.45 g/mol

外(wài)觀與溶解性

外(wài)觀:黃(huáng)色至橙色粉末

溶解性:易溶于甲醇、乙腈等極性有(yǒu)機(jī)溶劑

熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)

熔點:約190℃

儲存條件(jiàn):避光(guāng)密封儲存,建議(€♣yì)儲存溫度為(wèi)0-10℃,防止氧化(huà)和(hé)濕氣影(yǐng₹÷☆∞)響

【應用(yòng)領域】

光(guāng)刻膠配方

作(zuò)為(wèi)光(guāng)敏§∏♠劑,顯著提升光(guāng)刻膠的(de)曝光₩÷≥ (guāng)靈敏度和(hé)圖案分(fēn)✘π♣ 辨率。

1)适配紫外(wài)(UV)和(hé)深紫外(wài)(DUV)光(guāng)刻工(gōng)藝。

2)增強光(guāng)刻膠顯影(yǐng)過程中圖案邊緣銳度和(hé)✘"清晰度。

半導體(tǐ)制(zhì)造

廣泛應用(yòng)于集成電(diàn)路(lù)與微(w&≠☆αēi)電(diàn)子(zǐ)加工(gōng)中的(de)圖案轉移工(gōΩ✔±ng)藝。

1)支持先進制(zhì)程的(de)高(gāo)精度圖形刻蝕,提升線寬控制≈β↔(zhì)能(néng)力。

2)優化(huà)晶圓加工(gōng)良率,降低(dī)缺陷率。

光(guāng)敏材料研發

用(yòng)于開(kāi)發新型光(guā¥<<£ng)敏材料,滿足顯示面闆、傳感器(qì)等高(gāo)端領域™"€需求。

1)提升材料的(de)光(guāng)穩定性和(hé‌★)熱(rè)穩定性。

2)增強材料在複雜(zá)環境下(xià)的(de)光(guāng)響應性能( $néng),适配多(duō)種先進光(guān¶₹πg)學應用(yòng)場(chǎng)景。


Sorry, there is no relevant literatur £©£e
Shrink
86-571-82693216
CS