電(diàn)子(zǐ)級4-羟基苯磺酸

電(diàn)子(zǐ)級4-羟基苯磺酸（4-Hydroxybenzenesulfonε≤∞γic Acid）是(shì)一(yī)種具有(yǒu)羟基和 ≈✔(hé)磺酸基團的(de)芳香化(huà)合物(‌©↓♥wù)，表現(xiàn)出優異的(de)酸性和(hé)水(shu§εǐ)溶性。該産品以其高(gāo)純度和(hé)穩定性廣泛應用(yòng)于α ™↓電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品制(zhì)造，特别是(shì)在半‍♦導體(tǐ)、光(guāng)刻膠和(hé↑Ω£$)其他(tā)精密電(diàn)子(zǐ)材料領域，作(zuσ¶ò)為(wèi)催化(huà)劑、穩定劑和(hé)功能(n→♥↔₽éng)性添加劑使用(yòng)。

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【物(wù)理(lǐ)性質】

基本信息

（1）化(huà)學式：C₆H₆O₄S

（2）分(fēn)子(zǐ)量：174.17 g/mol

外(wài)觀與純度

（1）外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(hu♥↑α±áng)色粉末或結晶。

（2）純度：≥99.0%。

物(wù)理(lǐ)參數(shù)

（1）熔點：52 °C。

（2）溶解性：易溶于水(shuǐ)，部分(fēn)溶于醇類。

（3）酸性：強酸性，在水(shuǐ)溶液中呈強電(diàn)解質特性。♦✘

儲存條件(jiàn)

（1）儲存在密閉容器(qì)中，避免高(gāo)溫和(hé)潮濕環境。

（2）需遠(yuǎn)離(lí)強氧化(huà)劑和(hé)堿性物(wù§≥¶Ω)質。

【應用(yòng)領域】

電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品制(z÷↕→>hì)造

（1）用(yòng)作(zuò)光(guāng)刻膠合成中的(de₹σπ)催化(huà)劑，提高(gāo)化(huà)學反‌≥α∞應的(de)選擇性。

（2）在電(diàn)子(zǐ)清洗劑中作(z™ ≈εuò)為(wèi)添加劑，增強清洗性能(néng)。

半導體(tǐ)加工(gōng)

（1）用(yòng)于蝕刻液的(de)成分(fēn)♦∑&，提供穩定的(de)酸性環境，優化(huà)蝕刻效果。

（2）作(zuò)為(wèi)特殊電(diàn)子(zǐ)材料中的(de≥≈∏ε)活性組分(fēn)，支持高(gāo)性能(néng)半導體(tǐ)工(gō₹ ↑ng)藝需求。

其他(tā)電(diàn)子(zǐ)材料應用¥≤(yòng)

（1）作(zuò)為(wèi)染料中間(jiān)體(tǐ)或電(diàn)¥₩∏解質添加劑，賦予材料優異的(de)化(huà)∑$$ 學穩定性。

（2）在功能(néng)性塗層和(hé)薄膜制(zhì)備中，用(©σ∞yòng)于提高(gāo)材料的(de)附著‌✘₩(zhe)性和(hé)耐蝕性。

【總結】

電(diàn)子(zǐ)級4-羟基苯磺酸以其高(gāo)純度、穩定性和(hé)優良的(¶<♦de)酸性，在電(diàn)子(zǐ)工(g₹€♣ōng)業(yè)中扮演重要(yào)角色，是(sh ←‌ ì)光(guāng)刻、蝕刻和(hé)電(diàn)子(zǐ)化(huà)學合£≤✘成的(de)理(lǐ)想助劑，為(wèi)高(gΩ✔§∞āo)精密度電(diàn)子(zǐ)材料的(de)研發和(h" >®é)生(shēng)産提供了(le)可(kě)靠保障。