電(diàn)子(zǐ)級4-羟基苯磺酸（4-Hydroxybenzenesulfonic Acid）是(shì)一(yī)種具有(yǒu)羟基和(hé)磺酸基團的(de)芳香 ↑↔•化(huà)合物(wù)，表現(xiàn)出優異的(de)♠↕'✘酸性和(hé)水(shuǐ)溶性。該産品以其 ÷♥ε高(gāo)純度和(hé)穩定性廣泛應用(yò<∏ng)于電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品制(zhì)造，特别是(sh≈ ♠ì)在半導體(tǐ)、光(guāng)刻膠和"ε(hé)其他(tā)精密電(diàn)子(zǐ)材料領域，作(∏→σ↔zuò)為(wèi)催化(huà)劑、穩定劑和(hé)功能(néng∑®®)性添加劑使用(yòng)。
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【物(wù)理(lǐ)性質】
基本信息
（1）化(huà)學式：C6H6O4S
（2）分(fēn)子(zǐ)量：174.17 g/mol
外(wài)觀與純度
（1）外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色粉末或結晶。
（2）純度：≥99.0%。
物(wù)理(lǐ)參數(shù)
（1）熔點：52 °C。
（2）溶解性：易溶于水(shuǐ)，部分(fēn)溶于 ≥$β醇類。
（3）酸性：強酸性，在水(shuǐ)溶液中呈強電(diàn)解質特性。
儲存條件(jiàn)
（1）儲存在密閉容器(qì)中，避免高(gāo)溫和(hé)潮濕σ≥☆環境。
（2）需遠(yuǎn)離(lí)強氧化(huà)劑和(hé)堿性物(wù)質$ 。
【應用(yòng)領域】
電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品制(zhì)造
（1）用(yòng)作(zuò)光(guān↔§✔✔g)刻膠合成中的(de)催化(huà)劑，提高(gāoβ≠Ω)化(huà)學反應的(de)選擇性。
（2）在電(diàn)子(zǐ)清洗劑中作(zuò)為(wèi)添加劑ε$§，增強清洗性能(néng)。
半導體(tǐ)加工(gōng)
（1）用(yòng)于蝕刻液的(de)成分(fēn)，←♠€提供穩定的(de)酸性環境，優化(huà)蝕刻效果。
（2）作(zuò)為(wèi)特殊電(diàn)子(zǐ)材料↕©∑中的(de)活性組分(fēn)，支持高(gāγ₽εo)性能(néng)半導體(tǐ)工(gōng¶>∑&)藝需求。
其他(tā)電(diàn)子(zǐ)材料應用(yòng)
（1）作(zuò)為(wèi)染料中間(jiā&→n)體(tǐ)或電(diàn)解質添加劑，賦予材料優異的(de)化(huà✘₽)學穩定性。
（2）在功能(néng)性塗層和(hé)薄膜制(zhì)備中，用(yòn£α₽g)于提高(gāo)材料的(de)附著(z §he)性和(hé)耐蝕性。
【總結】
電(diàn)子(zǐ)級4-羟基苯磺酸以其高(gāo)純度、穩定性和(hé)優良✘←的(de)酸性，在電(diàn)子(zǐ)工(gōng)業(yè)中扮演®∏β 重要(yào)角色，是(shì)光(guāng)刻、蝕刻和( ™hé)電(diàn)子(zǐ)化(huà)學合成≠♥的(de)理(lǐ)想助劑，為(wèi)高(gāo)&β↕✔精密度電(diàn)子(zǐ)材料的(de)研發和(hé)生(₩ shēng)産提供了(le)可(kě)靠∞®₹保障。
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